狹縫擠出式涂布機(jī)

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面議

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產(chǎn)品詳情

涂布機(jī) / 膠印機(jī) （研發(fā)型）

狹縫擠出式涂布機(jī)技術(shù)參數(shù)：

粘度范圍：1-20000cps

應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯，紙張

幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

狹縫擠出式涂布機(jī)主要特點(diǎn)：
    卷對平板凹版膠印
    卷對卷微凹涂布
    卷對卷凹版膠印

小型研發(fā)型涂布機(jī)，凹版膠印機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

粘度范圍：1-20000cps

應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯，紙張

幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

主要特點(diǎn)：
卷對平板凹版膠印

卷對卷微凹涂布
卷對卷凹版膠印

小型研發(fā)型涂布機(jī)，凹版膠印機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

粘度范圍：1-20000cps

應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯，紙張

幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

主要特點(diǎn)：
    卷對平板凹版膠印
    卷對卷微凹涂布
    卷對卷凹版膠印

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發(fā)布詢價(jià)單

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主營產(chǎn)品：: 納米微米壓痕劃痕測試儀；近場掃描光學(xué)顯微鏡；接觸角測量儀；表面張力儀；LB膜分析儀；開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)；表面等離子共振譜儀(SPR)；輪廓儀；摩擦計(jì)；(顯微)硬度計(jì)；磁控濺射儀；熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)沉積；等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)；原子層沉積系統(tǒng)(ALD)；快速退火爐；霍爾效應(yīng)儀；探針臺；光致發(fā)光掃描儀(PL)；橢偏儀；膜厚儀；氣溶膠發(fā)生器，粒徑譜儀，稀釋器；濾料測試系統(tǒng)；煙霧發(fā)生器；空氣示蹤器；zeta電位分析儀；內(nèi)表面粗糙度測量儀；(氙燈)光反應(yīng)器；太陽模擬器；高壓反應(yīng)釜；